AMC到底是什么?居然影響半導(dǎo)體制程良率
日期:2017-05-24 / 人氣: / 來源:
[概要說明]轉(zhuǎn)自半導(dǎo)體行業(yè)聯(lián)盟(微信:icunion):AMC到底是個什么鬼?居然影響半導(dǎo)體制程良率
您知道什么是AMC嗎?其實AMC是氣體性分子污染物(Airborne Molecular Contamination)的縮寫,主要被SEMI定義有四大子項目:MA(酸蒸氣)、MB(鹼蒸氣)、MC(凝結(jié)物質(zhì))及MD(摻雜物質(zhì)),來源可能是無塵室外的汽車排氣、大氣臭氧、工廠排放等,或是潔凈室內(nèi)的化學(xué)溶劑揮發(fā)、蝕刻酸氣、塑料制品溢散等,由于來源非常廣泛,污染物項目族繁多元,因此如何有效控制逐漸成為相關(guān)業(yè)者相當(dāng)困擾的一大難題。
為何現(xiàn)在大家開始重視AMC?
(1)AMC對半導(dǎo)體制程良率的影響,其實相關(guān)業(yè)者很早就已開始進(jìn)行防范,但過去僅針對于大顆粒物質(zhì);但隨著制程愈來愈精細(xì),預(yù)防的標(biāo)準(zhǔn)也愈形嚴(yán)格,并在28奈米制程時達(dá)到檢測要求的高峰。不僅在體積大小較過去嚴(yán)苛,AMC檢測的項目也從過去單純的酸鹼物質(zhì),漸漸擴(kuò)增到有機(jī)物質(zhì),而有機(jī)物的物種的監(jiān)測也從過去半導(dǎo)體重視的十多種,漸漸擴(kuò)增到新的未知有機(jī)物物種。
(2)為何要投入未知物質(zhì)的偵測?原因在于半導(dǎo)體制程分有很多階段,每段都有不同的化學(xué)物質(zhì)投入,因此當(dāng)我們要判斷污染來源時,我們除了要判斷當(dāng)下制程的污染外,也要了解前段制程是否殘留有污染,或操作人員當(dāng)下是否有造成其他來源的污染,唯有每段精確的掌握狀況,才可能真的杜絕污染源繼續(xù)發(fā)展。
產(chǎn)業(yè)如何因應(yīng)AMC問題?
(1)半導(dǎo)體業(yè)者為了與其他競爭者拉出領(lǐng)先差異,對于AMC的全面性檢測標(biāo)準(zhǔn)要求日益嚴(yán)格。目前臺灣知名半導(dǎo)體大廠也已導(dǎo)入這樣的自動監(jiān)控設(shè)備,因為所有業(yè)者都了解,透過良率的提升,將是維持競爭優(yōu)勢的最大命脈。
(2)光電產(chǎn)業(yè)部分,OLED的前端LTPS制程也開始重視AMC的偵測控制。這塊制程在電性控制上非常重要,因此AMC的偵測也相形重要。臺灣某大面板廠目前也已導(dǎo)入自動監(jiān)控設(shè)備,以求良率的提升。
面板產(chǎn)業(yè)常用的曝光機(jī)制程、表層涂布制程,對于AMC干擾都會有相當(dāng)敏感的反應(yīng),因此更需對AMC作更精密的控制。AMC的產(chǎn)生會讓曝光機(jī)的鏡頭產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),進(jìn)而在光學(xué)鏡頭上產(chǎn)生化合物的附著,而這樣的狀況就會產(chǎn)生制程上的異常點。
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